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搜索结果: 1-2 共查到辐射物理与技术 总剂量辐照相关记录2条 . 查询时间(0.078 秒)
本发明涉及一种总剂量辐照对PMOSFET负偏压温度不稳定性影响的试验方法,该方法是由试验样品分组及测试参数选择;试验样品的总剂量辐照及退火试验;试验样品的负偏压温度不稳定性测量组成,为了保证试验结果的一致性和准确性,首先将样品分为预辐照组、对比组及两个摸底试验组,在摸底试验的基础上对预辐照组开展确定条件下总剂量辐照和退火试验,再将对比组和预辐照组开展相同条件下的负偏压温度不稳定性试验,对比试验结果...
对国产工艺的部分耗尽SOI PMOSFET 60Co γ射线的总剂量辐照及退火效应进行了研究。结果表明:随着工艺技术的发展,正栅氧化层具有较强的抗辐照加固能力,背栅由于埋氧层厚度和工艺生长原因而对总剂量辐照较为敏感;辐照引入的深能级界面态陷阱电荷的散射作用,导致了正栅源漏饱和电流的显著降低;退火过程中界面态陷阱电荷的饱和决定了正栅亚阈曲线的平衡位置,而隧穿或热发射的电子只能中和部分背栅氧化物陷阱电...

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