搜索结果: 1-7 共查到“材料科学 扩散阻挡层”相关记录7条 . 查询时间(0.077 秒)
本发明涉及涂层技术,具体地说是一种用于Ti-Al合金高温防护的Al/Al2O3 扩散阻挡层及制备方法,扩散阻挡层包括依次沉积于合金基体上的Al薄膜和 Al2O3薄膜。为了抑制MCrAlY涂层与Ti-Al合金之间严重的合金元素互扩散,将 在镍基高温合金防护上取得成功的MCrAlY涂层用于Ti-Al合金的高温防护, Al/Al2O3扩散阻挡层与MCrAlY(M＝Ni,Co或Ni+Co)防护涂层结合应用...
中国科学院金属研究所专利：一种Cr-O-N活性扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Cr-O-N 活性扩散 阻挡层
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2023/12/26
本发明涉及涂层技术,具体地说是一种Cr-O-N活性扩散阻挡层及其制备方 法。采用电弧离子镀技术,以纯铬为靶材,通过控制反应过程中O2和N2的流量, 获得在高温氧化情况下能有效降低涂层与高温合金基体间金属元素互扩散的阻挡 层；在阻挡层上沉积MCrAlY涂层作为抗氧化涂层。本发明所涉及的Cr-O-N活 性扩散阻挡层组织致密,与基体结合良好,工艺简单,制备成本低,是优良的扩 散阻挡层。本发明适用于基体为...
中国科学院金属研究所专利：一种Al-O-N扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Al-O-N 扩散阻挡层
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2023/12/26
本发明涉及涂层技术,具体地说是一种Al-O-N扩散阻挡层及制备方法,与 MCrAlY(M＝Ni,Co或Ni+Co)防护涂层结合应用；采用电弧离子镀技术,以 纯铝为靶材,控制反应过程中O2和N2的流量,在高温合金基体上沉积Al-O-N 扩散阻挡层,然后采用电弧离子镀技术沉积MCrAlY涂层。本发明所涉及的这种 Al-O-N扩散阻挡层,组织致密,与基体结合良好,在高温氧化条件下能有效降低 MCrAlY...
中国科学院金属研究所专利：一种用于Ti-Al合金和MCrAlY涂层间的Al/Al2O3扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Ti-Al合金 MCrAlY涂层 Al/Al2O3 扩散阻挡层
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2023/11/10
中国科学院金属研究所专利：一种用于Ti-Al合金和MCrAlY涂层间的Al/Al2O3扩散阻挡层及制备方法
电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阻挡层
Cr-O-N 活性扩散阻挡层 电弧离子镀
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2008/8/15
采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSM11间沉积不同成分的
Cr-O--N薄膜作为扩散阻挡层, 研究了900 ℃下氧化1400 h后
DSM11/Cr-O-N/NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及
阻挡层对涂层氧化动力学曲线的影响. 结果表明, Cr-O-N层在高温氧化过程
中生成与涂层和基材有良好结合的富Al氧化物层, 可以阻挡DSM...
扩散阻挡层对Cu-Zr纳米合金膜电阻率与残余应力的影响
扩散阻挡层 Cu-Zr合金膜 电阻率
纳米
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2007/11/9
文章摘要：
用磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在以单晶硅为基体的TiN,TaN,ZrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Zr合金膜,膜在400℃氮气中退火1 h.结果表明扩散阻挡层对膜的晶体取向、电阻率和残余应力有很大影响.沉积态的膜具有强的(111)取向,且峰型严重展宽;退火后峰型明显锐化,出现(200)等晶体取向;对应TiN,TaN,ZrN三种扩散阻挡层,膜的电阻率在沉积态时分别...