搜索结果: 1-1 共查到“等离子体物理学 沉积方法”相关记录1条 . 查询时间(0.122 秒)
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种等离子体辅助磁控溅射沉积方法
中国科学院大连化学物理研究所 专利 等离子体 磁控溅射 沉积方法
<
2023/12/29
本发明涉及一种等离子体辅助磁控溅射沉积镀膜技术。利用磁控溅射制备金属化合物薄膜时，为了克服靶中毒、阳极消失等现象，一般采用中频或脉冲直流反应磁控溅射方法。本发明提出一种新型的等离子体辅助沉积方法，通过在真空室内增加一等离子体放电区，工件架在随公转盘公转的同时高速自转，工件转过此等离子体放电区时，反应未完全的超薄层薄膜进一步与气体离子进行化和反应，从而得到更高化学计量比的化合物薄膜，大大提高了薄膜的...