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近日,拉普拉斯光伏及半导体工艺设备研发制造基地项目签约落户陕西省西咸新区泾河新城。据悉,拉普拉斯光伏及半导体工艺设备研发制造基地项目计划投资15亿元,分两期投资建设,一期为研发中心项目,投资约6000万元,2022年底入驻运营;二期为生产基地项目,2023年底启动建设,投资14.4亿元,占地约40亩。
韩国《中央日报》发布消息称,三星电子已成功研发出5纳米(nm)半导体工艺,并于4月中正式量产首个利用极紫外光刻(EUV)的7纳米芯片。对于新一代半导体的精密工艺问题,三星电子与各企业间的技术较量也日趋激烈。三星电子宣布成功开发的5纳米精密工艺采用了比现有的ArF更优越的EUV技术。与ArF工艺相比,EUV短波长,能够更加准确地画出精密半导体的电路。半导体的电路越设计越薄,芯片的尺寸变小,耗电量也同...
2012年4月27日至28日,北京纳米科学大型仪器区域中心为促进各成员单位间技术交流与合作,提升纳米科学技术的研发和创新能力,由国家纳米科学中心牵头,中科院半导体所和微电子所联合承办了区域中心首届以“半导体工艺技术”为主题的技术交流会。区域中心牵头单位国家纳米科学中心及所属8个研究所(物理所、化学所、微电子所、高能所、半导体所、电工所、过程所、理化所)的区域中心工作组成员、共享仪器设备操作员和相关...
半导体工艺中的新型刻蚀技术 --- ICP。

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