搜索结果: 1-4 共查到“材料表面与界面 TiN”相关记录4条 . 查询时间(0.128 秒)
PIIID复合强化处理轴承钢表面TiN膜层的XPS表征
XPS分析 等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID) 氮化钛薄膜
<
2009/10/30
用等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)复合强化新技术在AISI52100轴承钢基体表面成功合成了硬而耐磨的氮化钛薄膜。膜层表面的化学组成和相结构分别用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征;膜层表面的原子力显微镜(AFM)形貌显示出TiN膜结晶完整，结构致密均匀。XRD测试结果表明，TiN在(200)晶面衍射峰最强，具有择优取向。Ti(2p)的XPS谱峰泰勒拟合分析揭示出，Ti(...
化学气相沉积TiN薄膜及其耐磨性能
TiN 薄膜 化学气相沉积
<
2009/4/1
采用化学气相沉积的方法制备TiN薄膜，以提高K3镍基高温合金的耐磨性能。以TiCl4 和NH3为反应气体，用化学气相沉积法(CVD) 在K3镍基高温合金基体上制备了一系列不同温度和沉积时间的TiN 薄膜。结果表明，与基体相比，沉积TiN薄膜的样品耐磨性能有显著提高。当沉积温度不变时，TiN薄膜耐磨性能随沉积时间的延长先提高后降低；当沉积时间不变时，薄膜的耐磨性能随沉积温度的升高而提高。化学气相沉积...
高能量密度脉冲等离子体制备高硬耐磨TiN涂层
高能量密度脉冲等离子 TiN涂层 硬质合金
<
2008/9/8
用高能量密度脉冲等离子体于室温下在硬质合金刀具上成功淀积了高硬耐磨TiN涂层. 实验结果表明, 涂层与基体有强的结合力, 纳米划痕实验临界载荷达90 mN以上; TiN涂层具有很高的硬度和Young’s模量, 分别达27和450 GPa以上. 涂层刀具切削实验表明, 刀具可用于硬度高达HRC58—62的CrWMn钢切削, 且磨损量较低, 寿命长.
低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响
TiN薄膜 物理气相沉积(PVD) 择优取向
<
2008/8/1
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到2...