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中国科学院金属研究所专利：一种Cr-O-N活性扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Cr-O-N 活性扩散 阻挡层
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2023/12/26
本发明涉及涂层技术,具体地说是一种Cr-O-N活性扩散阻挡层及其制备方 法。采用电弧离子镀技术,以纯铬为靶材,通过控制反应过程中O2和N2的流量, 获得在高温氧化情况下能有效降低涂层与高温合金基体间金属元素互扩散的阻挡 层；在阻挡层上沉积MCrAlY涂层作为抗氧化涂层。本发明所涉及的Cr-O-N活 性扩散阻挡层组织致密,与基体结合良好,工艺简单,制备成本低,是优良的扩 散阻挡层。本发明适用于基体为...
中国科学院金属研究所专利：一种Al-O-N扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Al-O-N 扩散阻挡层
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2023/12/26
本发明涉及涂层技术,具体地说是一种Al-O-N扩散阻挡层及制备方法,与 MCrAlY(M＝Ni,Co或Ni+Co)防护涂层结合应用；采用电弧离子镀技术,以 纯铝为靶材,控制反应过程中O2和N2的流量,在高温合金基体上沉积Al-O-N 扩散阻挡层,然后采用电弧离子镀技术沉积MCrAlY涂层。本发明所涉及的这种 Al-O-N扩散阻挡层,组织致密,与基体结合良好,在高温氧化条件下能有效降低 MCrAlY...