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中国科学院宁波材料技术与工程研究所氧化物薄膜晶体管人工光电突触研究取得进展（图）
氧化物薄膜 晶体管 人工光电突触
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2023/9/13
人工视觉智能技术在安全、医疗和服务等领域颇有应用潜力。然而，随着网络化和信息化的发展，基于冯·诺依曼构架的现有视觉系统因功耗问题难以实时处理海量激增的视觉数据。仿生人类视觉的光电突触器件可集图像信息采集、存储和处理于一体，有效解决现有视觉系统存在的时效性、功耗等问题。非晶氧化物半导体薄膜晶体管（TFT）作为传统电子器件在显示、电子电路等领域已实现产业化应用。因此，基于氧化物TFT的创新器件在产业工...
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在宽带隙氧化物薄膜非线性吸收系数测量研究方面取得进展。研究团队通过抑制薄膜基底的非线性响应，提高测量信噪比，获得了HfO2、Al2O3和SiO2等常用薄膜材料的非线性吸收系数。相关成果发表在Optical Materials Express（《光学材料快讯》）上。HfO2、Al2O3和SiO2等薄膜材料是高功率激光系统中的常用材料，由于其光学带隙...
近日，由苏州纳米技术与纳米仿生研究所印刷电子技术研究中心研究员崔铮担任主编的《溶液法加工金属氧化物薄膜及其电子应用》的英文专著Solution Processed Metal Oxide Thin Films for Electronic Applications由国际学术出版社爱思唯尔（Elsevier）出版。该书是爱斯维尔出版的“金属氧化物”系列丛书之一。本书作者还包括湖南大学教授廖蕾、浙江大...
2019年10月25日，美国《科学》杂志在线发表了西安交通大学电信学部刘明教授课题组和材料学院丁向东教授课题组的最新合作论文“Super-elastic ferroelectric single-crystal membrane with continuous electric dipole rotations（具有连续电偶极旋转的超弹性铁电单晶薄膜）”。铁电材料是一种具有自发极化，且能够实现机械...
在双钙钛矿氧化物薄膜中实现了巨正磁电阻效应（图）
双钙钛矿 氧化物薄膜 巨正磁电阻效应
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2018/1/3
南京微结构科学与技术协同创新中心、南京大学固体微结构物理国家重点实验室和现代工程与应用科学学院材料科学与工程系的张善涛教授和周健副教授通过合作，在双钙钛矿亚铁磁性氧化物Sr2CrWO6半金属(half-metal)薄膜中，实现了巨正磁电阻效应。该工作通过脉冲激光沉积法，制备了一系列高质量的Sr2CrWO6薄膜。这些薄膜在低温下表现出厚度依赖的巨正磁电阻效应，厚度越薄，正磁电阻效应越大。其中12纳米...
西安交通大学电信学院在氧化物薄膜弯曲应变调控磁学性能研究方面取得进展（图）
西安交通大学电信学院 氧化物 薄膜 弯曲应变 磁学性能
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2017/7/6
近年来，基于应力对铁磁或铁电材料物理性质调控的研究越来越引起全世界范围的广泛关注。应力不仅可以改变超导和铁电材料的居里温度，而且这种应力调控在多铁耦合和各种传感器等研究方向有巨大的应用前景。然而，外延应力受到基片晶格常数、薄膜与基片界面效应，还有薄膜自身不同厚度导致应变弛豫的影响,在对单一薄膜样品连续应力调控方面面临较大的挑战，而且不利于精准分析应力与薄膜物性的关系。
铥激光器腔镜用高损伤阈值氧化物薄膜的研制
氧化物薄膜 2 μm波段 激光损伤
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2016/8/2
2 μm波段激光器在环境探测、测风雷达、生物组织切割、光电对抗等领域都有重要的应用价值和前景。而此波段的薄膜通常采用折射率较高的硫化物、砷化物等软膜材料来制备,为了提升该波段薄膜的损伤性能,采用折射率相对较低但能带隙更宽的氧化物材料来制备。利用傅里叶红外光谱仪和弱吸收测试仪分析表征了薄膜中OH基含量的多少和薄膜整体吸收的大小,通过优化工艺,成功制备出了满足2 020 nm的铥(Tm)激光器使用要求...
采用正交试验设计方法，系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5 和SiO2 薄膜的沉积速率与工艺参数（基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量）之间的关联性。采用正交表L9（34）设计了9 组实验，采用时间监控的离子束溅射沉积方法，分别制备HfO2、Ta2O5 和SiO2 薄膜，并对三种薄膜的27 个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度，继而获得沉积速率。实验结果表明：对Ta2O5 和SiO2 薄膜...
直流磁控反应溅射法制备的钒氧化物薄膜及其光谱研究
氧化钒薄膜 反应溅射法 UV-Vis光谱
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2011/5/12
用直流磁控反应溅射法和不同基底温度下在玻璃底上沉积微纳结构的氧化钒薄膜，通过X射线衍射、电子扫描显微镜、UV-Vis透射、红外和拉曼光谱研究了薄膜的结构特性。在低温下制备的薄膜表现出高的光学透过特性，在基底温度低于200 ℃下制备的薄膜具有无定形结构，而在基底温度高于200 ℃时制备的薄膜具有多晶结构。薄膜的光学参数使用经典模型计算，通过测量和拟合透射光谱获得了薄膜的禁带宽度变化规律。