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2017年先进等离子体处理技术研讨会（Workshop on Advanced plasma processing techniques:Etch,deposition and growth for optimized device performance）
2017年 先进等离子体处理技术 研讨会
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2017/9/22
Plasma processing is an essential tool for making the latest optoelectronic devices. From dry etching of laser facets to high density passivation understanding how the plasma can effect your device is...
成都企业部先进等离子体技术实验室投入使用
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2008/1/7
日前，成都企业部先进等离子体技术实验室改造工程基本完成，实验室正式投入使用。
企业部将主楼一楼西侧原有办公室按实验室要求进行了重新装修，并新增动力回路、循环水系统、集中送气系统、尾气排放系统等。同时，实验室配置的渗注镀复合表面处理设备、等离子体复合内表面处理设备、等离子体渗氮设备、微弧等离子体氧化设备、多弧离子镀膜设备等一系列等离子体表面处理设备以及显微硬度计、摩擦磨损仪等各种专用分析仪器都已...
HL—2A装置先进等离子体控制技术应用喜获成功
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2008/1/7
在国家核能开发计划、国家大型实验设施专项运行经赞的支持下，我院中国环流器二号A(HLL-2A)装置2003年度物理实验取得重大进展。由我院研发的先进等离子体控制系统在HL-2A装置上成功投入使用并取得重要成果，实现了HL-2A装置的稳定重复放电，装置运行参数达到等离子体电流140千安培、等离子体存在时间570毫秒(平顶时间250毫秒)、等离子体线平均度1.7x1019m-3。 HL—2A装置是国家...