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利用酸性CuCl2蚀刻废液制备微米级Cu2O粉体
Cu2O 微米级粉体 制备
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2009/11/10
以含CuCl2酸性蚀刻废液为原料，葡萄糖为还原剂，采用液相还原法制备分散性好的微米级Cu2O粉. 实验确定最佳制备条件为：反应温度80℃，终点pH值8~9，反应时间1 h，还原剂和铜离子摩尔比为0.8. 所制Cu2O产品纯度为99.34%，Cu回收率可达99.7%. 进一步采用XRD, SEM, LZS, TG等手段对产物进行表征，结果表明产品为高纯Cu2O，粒径为1.8~2.2 mm，空心多面体...
单晶硅化学蚀刻行为的研究
单晶硅片 化学蚀刻 表面形貌
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2009/9/24
用HF+HNO.3溶液蚀刻单晶硅表面，通过扫描电镜表征其形貌和厚度变化，研究了蚀刻液浓度、蚀刻时间及温度对单晶硅化学蚀刻行为的影响.结果表明，温度对蚀刻速率的影响较大，温度升高使表面蚀刻不均匀，厚度急剧减小；硅片的厚度及表面形貌在蚀刻液浓度大于2.0 mol/L时变化较显著；室温时用1.5 mol/L HF+HNO3蚀刻15 min获得了蚀坑大小适中(10 μm～15 μm)、分布均匀的多孔状表...
石英表面蚀刻保护涂料的制备及其性能
蚀刻 保护涂料 聚苯乙烯
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2009/9/14
采用聚苯乙烯(PS)和丁二烯与苯乙烯的嵌段共聚物(S BS)为成膜物，以硫酸钡、聚异丁烯为填料和改性剂，并加入偶联剂，获得有较强防腐能力的蚀刻用保护涂料并筛选出最佳工艺条件.在较高温度下，该涂料对饱和氟化氢、饱和氟化氢铵溶液等强腐蚀性介质有良好的化学稳定性，可用于玻璃、石英蚀刻中的表面防腐.