搜索结果: 1-6 共查到“材料科学 射频磁控溅射”相关记录6条 . 查询时间(0.081 秒)
退火工艺对射频磁控溅射Bi:YIG薄膜磁性能的影响
无机非金属材料 快速循环退火 Bi:YIG薄膜
<
2009/2/7
对于用射频磁控溅射技术在Si基片上制备的Bi:YIG系薄膜,
用快速循环退火方法对其进行晶化处理,
研究了退火温度对Bi:YIG薄膜结晶状态和形貌的影响,
以及退火气氛和循环周期对薄膜性能的影响. 结果表明,
用快速循环退火可以在Si单晶基片上得到磁性能优良的薄膜
(饱和磁化强度139 kA/m, 矫顽力6.37 kA/m)并使薄膜形貌有较大改善,
在石英基片上制备的薄膜法拉第角比常规...
射频磁控溅射SnO2/MWCNTs 薄膜材料的气敏性能研究
射频磁控溅射 SnO2/MWCNTs 气敏元件 NO2
<
2014/5/7
采用射频磁控溅射方法制备掺杂多壁碳纳米管（MWCNTs）的SnO2薄膜材料，并在此基础之上制作了NO2气敏传感器，使用扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）研究了SnO2/MWCNTs薄膜材料的表面形貌、物质组份等材料特性，采用气敏元件测试系统来分析传感器的气敏效应，包括灵敏度、选择性、响应-恢复等特性，实验结果表明该气敏传感器对超低浓度（10ppb）NO2气体有很好的灵敏度，对干扰气体...
射频磁控溅射法制备聚氟薄膜及其性能研究
聚氟材料 射频磁控溅射 电子二次倍增效应
<
2013/10/8
研究了卫星相控阵雷达天线系统的TR组件表面聚氟材料薄膜的制备工艺,采用射频磁控溅射法成功地在TR组件表面制备了聚氟薄膜,并对所制备的薄膜进行了电子二次倍增效应阈值试验。结果表明,聚氟薄膜不但具有良好的绝缘性能,且其二次电子发射也较低,提高了电子二次倍增效应阈值。对薄膜组分与形貌进行了X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)分析表征,薄膜较好的保持了聚氟材料的特性,其均匀性和致密性均达到...
射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质
氮化碳薄膜 射频磁控溅射 沉积 结构
<
2008/11/20
利用反应性质频磁控溅射在Ｓｉ（１００）单晶衬底上沉积氮化碳薄膜, 并系统地了薄膜的结构, 成分及化学键等信息. Ｘ射线衍射分析表明, 制备的氮化碳薄膜具有非晶结构. 红外吸收谱说明薄膜中碳, 氮原子结构成化学键.
射频磁控溅射 Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜表层的XPS研究
<
2007/12/13
摘要 用射频磁控溅射在Pt/Ti/SiO2/Si基体上沉积Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜, 用X射线光电子能谱(XPS)研究BST薄膜表层在常规晶化和快速晶化条件下的结构特征. 结果表明, 常规晶化时, BST薄膜表层约3～5nm厚度内含有非钙钛矿结构的BST, 随着温度的升高该厚度增加; 快速晶化时, 该厚度减薄至1nm内, 随着温度的升高没有明显增加. 元素的化学态分析结果表明, ...
射频磁控溅射制备 HA(+ZrO2+Y2O3)/Ti6Al4V 复合生物活性涂层
<
2007/12/12
摘要 采用射频磁控溅射法制备了HA(+ZrO2+Y2O3)/Ti6Al4V 生物复合涂层. 借助于XRD、SEM、FTIR和AFM等对溅射涂层的相组成、微观形貌和界面结合进行了研究, 并以模拟体液试验探讨了涂层的生物活性. 实验结果表明: 磁控溅射的复合涂层呈非晶态, 经过退火处理, 可以使其转化为晶态; 复合涂层的微观表面凹凸不平, 并呈现网状结构和较多的孔隙, 其孔隙直径约为0.5～2.0μm...