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搜索结果: 1-2 共查到光电子学与激光技术 上海微系统所相关记录2条 . 查询时间(0.651 秒)
六方氮化硼(hBN)是具有与石墨烯类似的六角网状晶格结构的宽禁带半导体,其大带隙和绝缘性质使其成为极佳的介质衬底材料,同时限制了其在电子学和光电子学器件中更广泛的应用。与hBN片层不同,hBN纳米带(BNNR)可以通过引入空间和静电势的约束表现出可变的带隙。计算预测,横向电场可以使BNNRs带隙变窄,甚至导致其出现绝缘体-金属转变。然而,如何通过实验在BNNR上引入较高的横向电场颇具挑战性。
为落实中科院“创新2020”战略,推进所“一三五”规划中SOI技术的突破发展,王曦院士邀请英国Rockley Group公司董事长Andrew Rickman博士和美国普渡大学祁明浩教授2012年2月6日访问上海微系统所开展学术交流并举行客座研究员聘请仪式,所党委副书记俞跃辉主持了仪式和学术报告会。

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