搜索结果: 1-10 共查到“知识库 材料实验 Si-C-O”相关记录10条 . 查询时间(0.272 秒)
Cu/Cu(Ge, Zr)/SiO2/Si多层膜界面可控反应及热稳定性研究
Cu(Ge, Zr)薄膜 界面反应 选择性自反应 热稳定性
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2013/11/21
利用多靶磁控溅射技术在SiO2/Si基体上沉积Cu/Cu(Ge, Zr)多层薄膜,采用四探针仪(FPPT), X射线衍射仪(XRD), 高分辨透射电镜(HRTEM),X射线光电子能谱(XPS)和原位纳米电子束探针能谱(EDS)表征多层薄膜退火前后电阻率、微观结构和界面成分的演变及行为.结果表明, 在低温退火阶段(<200℃), Cu(Ge, Zr)膜层中Ge与Cu选择性反应形成低阻Cu3Ge相,有...
稳恒磁场对Fe-Si复合电镀层形貌及Si含量的影响
Fe-Si复合镀层 稳恒磁场 复合电沉积 磁流体动力学(MHD)流动
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2013/11/21
将平均粒径为2μm的Si粉分散于镀铁液中,对水平稳恒磁场下复合电沉积法制备Fe-Si复合镀层过程进行了研究,探讨了磁感应强度及位向、电流密度等对Fe-Si复合镀层形貌及Si含量的影响规律.结果表明, 采用竖直电极电镀时, 在0-1 T磁感应强度下,无论施加平行磁场还是垂直磁场, 镀层Si含量均随着磁场强度的增加而增加,特别对平行磁场而言, 镀层Si含量从无磁场的1.23% (质量分数, 下同)增加...
等离子表面Cr-Si合金化改善TiAl基合金高温性能的研究
TiAl基合金 等离子表面合金化 高温抗氧化性能 高温耐磨性能
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2013/9/29
利用等离子表面合金化技术，在TiAl基合金表面实现了CrSi二元共渗。使用扫描电镜（SEM）、能谱（EDS）和X衍射仪（XRD）检测了合金渗层的形貌、合金元素含量与相组成，并研究了合金化处理对TiAl基合金高温抗氧化性能与高温耐磨性能的改善效果。结果显示，合金渗层组成相为Cr3Si及Laves相TiCr2，过渡层物相主要为Al8Cr5与Al3Ti，合金层内Cr，Si元素含量呈梯度分布。经高温氧化...
DZ40M合金Al-Si涂层高温防护性能研究
DZ4 0 M 钴基合金 A - l S i 涂层 高温氧化 热腐蚀
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2013/9/30
采用料浆渗技术在 D Z40 M 钴基高温合金基材上制备了 A - l S i 涂层, 研究了涂 层在 10 00e 下的高 温氧化行为和 9 00e 下的燃气热腐蚀行为。结果表明, 料浆渗 A - l S i 涂层明显改善了 DZ4 0 M 合金的抗高温氧化性能, 涂层主要由 C o A l 相组成, 随着氧化时间的增加, C o A l 相发生了退化, 逐 渐转变成 A - C o 相; 涂 ...
热处理制度对Mg-Y-Al-Si-O-N玻璃析晶行为的影响
热处理制度 Mg-Y-Al-Si-O-N玻璃 晶相 析晶度 显微结构
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2010/3/23
分别研究核化温度、核化时间和晶化温度对Mg8.88Y5.92Al10.15Si15.22O52.65N7.19(摩尔分数，%)氧氮玻璃析晶行为的影响。此外，还对比研究了两步和一步热处理制度对此玻璃析晶行为的影响。用DSC曲线初步确定玻璃成核和晶化温度范围，再用传统方法确定玻璃的最佳热处理制度；用X-射线衍射仪鉴定微晶玻璃中的物相；用扫描电镜观察微晶玻璃的微观结构。结果表明：对于此组成玻璃，热处理制...
Shift in room-temperature photoluminescence of low-fluence Si+-implanted SiO2 films subjected to rapid thermal annealing
rapid thermal annealing (RTA) Si+ implantation photoluminescence SiO2 films
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2010/10/12
We experimentally demonstrate the effect of the rapid thermal annealing (RTA) in nitrogen
flow on photoluminescence (PL) of SiO2 films implanted by different doses of Si+ ions.
Room-temperature PL f...
在Ni基高温合金表面预置3种不同WC含量的Ni78Si13Ti9(at%)粉末,采用激光熔覆制备了WC和原位自生TiC复相陶瓷增强Ni3(Si,Ti)基复合涂层。利用扫描电镜、能谱分析仪和X射线衍射仪对熔覆层组织进行分析,并测量了其显微硬度。结果表明,熔覆层与基体呈冶金结合,熔覆层组织主要由Ni(Si)固溶体、Ni3(Si,Ti)金属间化合物和WC-TiC复相陶瓷组成。随WC添加量增加,涂层中复相...
根据紧束缚理论和Si(7 7 17)-2×1表面的原子结构模型,运用蒙特卡洛方法模拟蒸发沉积在Si(7 7 17)-2×1表面的Ag原子经2次退火自组装成纳米线的实验过程.模拟结果表明,退火温度及作为模板的硅表面排状结构对银纳米线的自组装有较大影响;在退火过程中,Ag原子沿Si(7 7 17)-2×1表面原子沟槽扩散,并吸附在该表面的四聚体链上形成一维纳米线,这与实验结果相符合.
快速凝固Al Fe V Si Nd合金中纳米相转变动力学
Al Fe V Si Nd合金 快速凝固 相变动力学 激活能
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2010/3/23
应用Mssbauer谱， X射线衍射(XRD)和差式扫描量热法(DSC)研究了颗粒弥散的快速凝固Al4.3Fe 0.7V 1.7Si1.0Nd(摩尔分数， %)合金中纳米相的转变和相变动力学，并用Arrami公式 X =1-exp(- Kt n)计算了纳米相转变的激活能。 结果表明： 快速凝固纳米合金在加热过程中发生Al8Fe4Nd相向 α Al13 (Fe,V)3Si相转变, αA...
在亚正规熔体模型SELF—SReM4.0的基础上,提出了可解决碳化物析出问题的SELF—SReM4.1模型.并以C—Mn—Fe—Si四元系为例介绍了用上述二种模型计算组元活度的结果，分析了Si—Mn，Mn-Fe系中的若干平衡规律.