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摘要 通过带有选择标志的质粒pSV_2Neo的基因共转染和第一轮转化的XP细胞DNA的再转染,进一步证明了前文报道的HeLaS3 DNA的切除修复基因在XP细胞中的稳定表达,以及受体细胞UV抗性的稳定增加。通过五种限制性核酸内切酶酶切DNA片段的转染,初步寻找出切除修复基因位于Bg1 Ⅰ,xhoⅠ 酶切片段之中。