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应用中国原子能科学研究院HI13串列加速器产生的重离子32S和79Br轰击聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜,再对薄膜进行化学蚀刻处理使由重离子辐照损伤产生的潜径迹形成微孔,制备出孔径为100~900 nm的重离子微孔膜。为增加径迹蚀刻速率与体蚀刻速率之比,化学蚀刻前采用紫外光辐照薄膜。蚀刻过程中采用电导蚀刻法监测膜孔径生长过程。对32S和79Br辐照制备的重离子微孔膜进行了比较,79Br离...
采用蚀刻的聚碳酸酯(PC)离子径迹膜为模板,结合电化学沉积技术,制备出了直径为100~320nm、长度从几μm到30μm的聚吡咯纳米线。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、透射电子显微镜(TEM)对纳米线的形貌进行了表征。结果表明,所制备出的聚吡咯纳米线均呈圆柱形,且表面光滑、粗细一致。聚吡咯纳米线的紫外-可见(UV-Vis)光谱分析表明,随着聚吡咯纳米线直径增加,聚吡咯纳米线吸收峰展宽,且峰...

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