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该成果标明了中国IC大生产技术已进入1.0微米CMOS年代,增强了发展中国民族微电子事业的信念,社会反响很好,社会效益显著。该成果具有3大特点:技术先进产品市场好;技术规范国际接轨好;技术全面整体配套好。因此,该项成果有着很好的推广应用前景,在提高新产品开发速度和效率方面,这条工艺制造线,在小规模生产方面已取得良好的经济效益。如上所述,由于该成果具有技术先进产品市场好、技术规范国际接轨好、技术全面...
武汉集成电路设计工程技术研究中心成立于2003年9月。主要负责基地技术平台的运作、技术服务、技术管理与技术培训。中心拥有先进EDA(电子设计自动化)软件和测试平台的开放实验室,供IC设计企业共享使用;中心还将建立面向全国的多项目晶圆支援计划;开展项目研发;组织各类培训、开设专业课程。

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