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采用射频磁控溅射方法，在普通玻璃上制备了具有高度c轴取向的ZnO薄膜，研究了溅射气压(0.2~1.5 Pa)对ZnO薄膜的微观结构和光电性能的影响。AFM、XRD、UV-Vis分光光度计及四探针法研究表明：随着溅射气压的增大，ZnO薄膜沿c轴方向的结晶质量提高，晶粒细化，薄膜表面更加致密，晶粒大小更加均匀；ZnO薄膜在400~900nm范围内的平均透过率均高于85%，其中在0.5~1.5 Pa范围...
