搜索结果: 1-15 共查到“半导体技术 报告”相关记录30条 . 查询时间(1.15 秒)
同步整流芯片市场研究报告(图)
同步整流芯片 市场研究报告
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2022/10/17
西安邮电大学电子工程学院刘佳欣教授应邀为做线上学术报告(图)
西安邮电大学电子工程学院 刘佳欣 西安邮电大学电子工程学院 学术报告 集成电路
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2022/12/6
西安邮电大学电子工程学院举办2021年系列学术报告会(第十期)(图)
西安邮电大学电子工程学院 系列学术报告会 模拟集成电路 电磁场 微波技术
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2022/12/6
半导体EDA产业深度研究报告:国产EDA迎黄金时代
半导体 模拟设计类 晶圆制造类
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2022/10/26
电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)技术是指包括电路系统设计、系统仿真、设计综合、PCB 版图设计和制版的一整套自动化流程。随着计算机、集成电路和电子设计技术的高速发展,EDA 技术历经计算机辅 助设计(CAD)、计算机辅助制造(CAM)、计算机辅助制造(CAM)、计算机辅助测试(CAT)和计算机辅助工程设 计(CAE)等发展历程,已经成为电子信息产业...
西安邮电大学电子工程学院举办2021年系列学术报告会(第二期)(图)
西安邮电大学电子工程学院 系列学术报告会 低维异质结 宽带天线
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2022/12/6
碳化硅衬底是第三代半导体材料中氮化镓、碳化硅应用的基石。受技术与工艺水平限制,氮化镓材料作为衬底实现规模化应用仍面临挑战,其应用主要是以蓝宝石、硅晶片或半绝缘碳化硅晶片为衬底,通过外延生长氮化镓以制造氮化镓器件,主要应用于宏基站通信射频领域;而碳化硅材料则主要以在导电型碳化硅衬底上外延生长碳化硅外延层,应用在各类功率器件上,近年来随着技术工艺的成熟、制备成本的下降,在新能源领域的应用持续渗透。碳化...
东南大学电子科学与工程学院孙伟锋教授团队受邀参加国际宽禁带半导体顶级会议ICSCRM2019并做报告
东南大学电子科学与工程学院 孙伟锋 教授 宽禁带 半导体 顶级会议 ICSCRM 2019
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2019/10/21
碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体因高临界击穿电场、高导热率、高电子迁移率等优点,已成为第三代功率半导体的理想材料。宽禁带半导体领域国际会议“International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019”(ICSCRM2019)于9月29日至10月4日在日本京都举行,学院孙伟锋教授团队的刘斯扬副教授、魏家行博士后、李胜博士参...
国家重点研发计划“有机二维异质结构的输运性质调控及其微纳器件”青年项目2018年度报告会召开(图)
国家重点研发计划 有机二维异质结构 输运性质调控 微纳器件 青年项目 2018年度 报告会
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2018/12/12
2018年11月21日,由天津大学牵头,联合中国科学院半导体研究所、上海交通大学共同承担的国家重点研发计划“纳米科技”重点专项“有机二维异质结构的输运性质调控及其微纳器件”青年项目2018年度报告会在天津大学卫津路校区第三教学楼会议室召开。中国科学技术大学院士谢毅,天津大学党委常委、副校长胡文平,天津大学分子聚集态科学研究院院长李振以及项目专家组成员、项目承担单位、合作单位代表等十余人出席会议。年...