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中国科学院金属研究所专利：一种Al-O-N扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Al-O-N 扩散阻挡层
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2023/12/26
本发明涉及涂层技术,具体地说是一种Al-O-N扩散阻挡层及制备方法,与 MCrAlY(M＝Ni,Co或Ni+Co)防护涂层结合应用；采用电弧离子镀技术,以 纯铝为靶材,控制反应过程中O2和N2的流量,在高温合金基体上沉积Al-O-N 扩散阻挡层,然后采用电弧离子镀技术沉积MCrAlY涂层。本发明所涉及的这种 Al-O-N扩散阻挡层,组织致密,与基体结合良好,在高温氧化条件下能有效降低 MCrAlY...